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低铈系稀土抛光粉的制备—稀土催化材料
作者:www.tmfpanxp.com 时间:2018-09-05 09:49:16 来源:原创

由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能,所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用,如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的玻璃抛光粉。

低铈系稀土抛光粉,如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和C-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光;H-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外,其它抛光粉用于对光学仪器,摄像机和照像机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量最多,约占国内总用量85%以上。

低铈系稀土抛光粉的制备——稀土催化材料公司来为大家娓娓道来:

以少铕氯化稀土(w(reo)≥45%,w(ceo2)≥48%)为原料,以合成中间体(沉淀剂)进行复盐沉淀等处理,可制备低级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:

原料→溶解→复盐沉淀→过滤洗涤→高温煅烧→粉碎→细磨筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。

主要设备:溶解槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,粉碎机,细磨筛分机。

主要指标:产品中w(reo)=85%~90%,w(ceo2)=48%~50%;稀土回收率约95%;平均粒径0.5μm~1.5μm(或粒度320目~400目)。该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。 用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿(w(reo)≥60%,w(ceo2)≥48%)为原料,直接用化学和物理的方法加工处理,如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为:

原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。 主要设备:球磨机,混料机,焙烧炉,筛分机等。主要指标:产品中w(reo)≥95%,w(ceo2)≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1。5μm~2。5μm。该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。 目前,国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多,约占总产量的90%以上。

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